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曝气原理与曝气设备

  • 资料大小:50 KB
  • 运行环境:NT/2000/XP/2003/Vista
  • 资料语言:简体中文
  • 资料评级
  • 授权形式:资料共享
  • 更新时间:2012-02-25 14:24
  • 发布作者:小丸子~
  • 插件情况 无插件,请放心使用
  • 文件类型 RAR
  • 解压密码:gc5.com
  • 安全检测 瑞星 江民 卡巴斯基 金山
曝气原理与曝气设备
介绍: 在气液两相接触的界面两侧存在着处于层流状态的气膜和液膜,其外侧则分别为气相主体和液相主体,两个主体处于紊流状态。气体分子以分子扩散方式从气相主体通过气膜和液膜而进入液相主体。 气液两相的主体均处于紊流状态,其中物质浓度基本上是均匀的,不存在浓度差和传质阻力,气体分子从气相传递到液相,阻力仅存在于气液两层层流膜中。
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曝气原理与曝气设备
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