介绍： 本工程总建筑面积5614.51m2, 建筑占地面积1392m2，框剪结构，地下1层，地上4层, 建筑总高度23.95m，地上层高一~二层7.0m、三~四层4.2m。本工程地下室及上部结构采用桩基础，电缆沟处一层墙体采用天然地基浅埋墙下条形基础或柱下独立扩展基础。本工程地下室为紧缩场控制区，一层房间主要为紧缩场微波暗室及整机装调测试区，二层房间主要为相位中心微波暗室及装调区，三层主要为调试装配区及组装区，四层为仓库及电解室。
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