介绍： 综合楼二期位于北京市海淀区中关村，北四环路南侧，中关村大街西侧，鼎好电子城北侧，该项目为地上21层，地下部分5层，框架剪力墙结构，筏板基础，基础埋深为-21m（相对标高），拟建建筑物南侧与鼎好电子城地下室的北侧相连。本工程施工包括基坑土方、护坡、降水。 2.2地质条件 2.2.1工程地质条件 根据中兵勘察设计研究院提供的《鼎固科贸综合楼二期岩土工程勘察报告》，本场区地层按成因类型、沉积年代可划分为人工堆积层和第四纪沉积层两大类，场区地层自上而下分别为： 表层为厚0.60~10.70m的人工堆积之粘质粉土填土①层及杂填土①1层。 人工堆积层以下为第四纪粘质粉土、砂纸粉土②层，粘土、重粉质粘土②1层；粉质粘土③层，粘质粉土③1层； 粘质粉土、砂质粉土④层，粉质粘土④1层，粉质粘土④2层； 粘土、重粉质粘土⑤层，粉质粘土⑤1层，砂质粉土、粘质粉土⑤2层； 细砂⑥层； 卵石⑦层，夹圆砾⑦1层及细砂⑦2层； 粘质粉土、砂质粉土⑧层，粘土⑧1层，粉质粘土、重粉质粘土⑧2层； 卵石⑨层，细中砂⑨1层，圆砾⑨2层，粉质粘土、重粉质粘土⑨3层，砂质粉土、粘质粉土⑨4层。
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