介绍: 综合楼二期位于北京市海淀区中关村,北四环路南侧,中关村大街西侧,鼎好电子城北侧,该项目为地上21层,地下部分5层,框架剪力墙结构,筏板基础,基础埋深为-21m(相对标高),拟建建筑物南侧与鼎好电子城地下室的北侧相连。本工程施工包括基坑土方、护坡、降水。 2.2地质条件 2.2.1工程地质条件 根据中兵勘察设计研究院提供的《鼎固科贸综合楼二期岩土工程勘察报告》,本场区地层按成因类型、沉积年代可划分为人工堆积层和第四纪沉积层两大类,场区地层自上而下分别为: 表层为厚0.60~10.70m的人工堆积之粘质粉土填土①层及杂填土①1层。 人工堆积层以下为第四纪粘质粉土、砂纸粉土②层,粘土、重粉质粘土②1层;粉质粘土③层,粘质粉土③1层; 粘质粉土、砂质粉土④层,粉质粘土④1层,粉质粘土④2层; 粘土、重粉质粘土⑤层,粉质粘土⑤1层,砂质粉土、粘质粉土⑤2层; 细砂⑥层; 卵石⑦层,夹圆砾⑦1层及细砂⑦2层; 粘质粉土、砂质粉土⑧层,粘土⑧1层,粉质粘土、重粉质粘土⑧2层; 卵石⑨层,细中砂⑨1层,圆砾⑨2层,粉质粘土、重粉质粘土⑨3层,砂质粉土、粘质粉土⑨4层。