介绍: 该工程位于北京××区××机关院内,场地狭小。南侧:该建筑物基坑边距老建筑物为6m,建筑物高16.20m,基础埋深为自然地面下1.9m,为独立柱基础;北侧:该建筑物基坑边距北围墙1.5-2.0m;东侧:该建筑物基坑边超出东围墙1.0-2.5m,施工期间需圈用某公寓部分绿化场地。西侧:该建筑物基坑边距西围墙9m,且靠近围墙有一排直径为30cm杨树;基坑的北围墙与西围墙外侧10m为市政道路中心。 基坑尺寸:东西为76.275m,南北为50.800m,局部采光井部位要相应扩大开挖面积,基坑面积3900m2, 基础埋深约为6.6m,±0.00以下人防结构完工后,回填土并夯实。 主楼标高±0.00=37.95m,自然地面标高为37.05,基底标高相对于±0.00为-7.46m。 3、基坑周边环境条件 3.1 基坑南侧:距基坑6m有一老建筑物。其间6m宽为施工道路。道路下方埋设管线,自北向南依次有电信、给水管、电力、排污井管、热力,埋置深度均在1.0-2.0m之间。 基坑西侧:距基坑8m有一排直径为30cm大树。距坑外侧5m自东向西依次有给水管、热力、电力管线,埋置深度在1.0-2.0m之间。 基坑北侧:距基坑1.0-2.0m为院北围墙,坑边与围墙之间设有给水、电力管线,埋置深度在1.0-2.0m之间。 基坑东侧:该建筑物基坑边超出院东围墙1.0-2.5m,施工期间需圈用某公寓部分绿化场地。